- 研究纳米臭氧/H2O2工艺去除半导体废水中TMAH
强调 纳米臭氧/ H2O2工艺在pH 10和25C下对TMAH的去除效果好。 使用纳米臭氧时，气体传质和臭氧气体的半衰期增加了 纳米臭氧/ H2O2反应产生了可除去TMAH的OH自由基。 在90分钟内，TMAH中80％ . . .
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